物理气象沉积发表评论(0)编辑词条

物理气相沉积(physical vapor deposition)

在真空条件下将涂层材料转变成蒸气态再沉积在基材表面的表面防护方法。

物理气相沉积(PVD)包括真空蒸发镀、真空溅射镀、离子镀和束流沉积技术等。

(1)真空蒸发镀。使膜材蒸发逸出并沉积于基材表面。到达基材表面的原子能量为0.1～1eV，主要是无碰撞直线传输。

(2)真空溅射镀。利用荷能粒子轰击靶材，引起表面原子逸出并沉积于基材表面。由离子枪轰击靶材产生溅射称为离子束溅射。由辉光放电等离子体提供正离子，轰击高负电位靶材产生的溅射则称为等离子体溅射。对等离子体施加磁约束的磁控溅射技术具有高速和低温两大特点。向沉积室引入反应气体使之与溅出的靶材原子发生化学反应形成化合物薄膜称为反应溅射。对绝缘体靶材须采用射频溅射，常用频率为13．56MHz。

(3)离子镀。是在上述两种镀膜技术基础上发展起来的技术。该技术可使粒子能量提高到10～500eV，显著改善膜的附着强度。

(4)束流沉积技术。是利用离化粒子流作为蒸镀膜物质，可在较低温度下形成具有良好特性的薄膜。既可以在基材表面先用普通沉积技术沉积金属或合金薄膜，然后再用几个keV到10keV离子束轰击使之形成亚稳态组织，也可以边沉积边用高能离子束轰击。PVD技术广泛用于制备光学、半导体器件、耐磨耐蚀刀具、工具、机械零件以及装饰涂层等。